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HEAT-DISSIPATION UNIT WITH HEAT-DISSIPATION MICROSTRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME

机译:具有散热微结构的散热单元及其制造方法

摘要

A heat-dissipation unit with heat-dissipation microstructure and method of manufacturing the same is disclosed. The heat-dissipation unit with heat-dissipation microstructure includes a main body internally defining a chamber; a wick structure formed on an inner surface of the chamber; and at least a SiO2 nano thin film coated on the wick structure. The SiO2 nano thin film is formed of a plurality of SiO2 nanograins, and is coated on the wick structure of the heat-dissipation unit through the sol-gel process. With the at least one layer of SiO2 nano thin film coated on the wick structure, it is able to upgrade the heat dissipation performance of the heat-dissipation unit.
机译:公开了一种具有散热微结构的散热单元及其制造方法。具有散热微结构的散热单元包括在内部限定腔室的主体;在腔室的内表面上形成的芯吸结构;至少在芯吸结构上涂覆SiO 2 纳米薄膜。 SiO 2 纳米薄膜由多个SiO 2 纳米颗粒形成,并通过溶胶-凝胶法涂覆在散热单元的芯结构上。通过在芯吸结构上涂覆至少一层SiO 2 纳米薄膜,能够提高散热单元的散热性能。

著录项

  • 公开/公告号US2011146955A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YING-TUNG CHEN;

    申请/专利号US20100938342

  • 发明设计人 YING-TUNG CHEN;

    申请日2010-11-02

  • 分类号F28D15/04;B21D53/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:14:45

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