要解决的问题:提供一种用于制造基础轮胎的方法,该方法用于抑制形成基础轮胎的抛光的失败的发生,用于基础轮胎的翻新用胎面,以及具有用于踩踏的胎面的后处理轮胎。卡在基础轮胎上。
解决方案:在用于制造基础轮胎10的方法中,通过刮擦用过的轮胎的胎面部分来形成抛光表面10a。通过刮擦抛光面10a的宽度方向上的两端以使其在轮胎径向上从宽度方向高度地定位,来制造基础轮胎。粘贴在通过基础轮胎10的制造方法制造的基础轮胎10的抛光面10a上的翻新用胎面11形成为粘贴在抛光面10a上的面与抛光面10a相对的形状。后退轮胎是通过将用于胎面的胎面粘贴到基础轮胎10上而制造的。
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公开/公告号JP2010173139A
专利类型
公开/公告日2010-08-12
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申请/专利权人 BRIDGESTONE CORP;
申请/专利号JP20090016690
发明设计人 MATSUNAGA MIDORI;
申请日2009-01-28
分类号B29D30/54;B60C11/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:06:34