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Kollimierte Zielscheibe zum Projektieren einer Markeranordnung im Unendlichen

机译:准直目标,用于将标记排列投影到无穷远处

摘要

The pattern has a set of micro-collimated units, each comprising a light source (3), elementary test pattern (4) comprising a luminous marker (5) illuminated by the source, as well as a collimation unit formed of collimation lens (6) that project the luminous marker to infinity. Axes of the units are oriented based on a field necessary to form a collimated total image of the pattern by machining a support plate (1). The support plate has a set of through-bores, each comprising a threaded cylindrical section (T1) extending from a posterior surface (7) of the plate.
机译:该图案具有一组微准直单元,每个微准直单元包括光源(3),基本测试图案(4),该基本测试图案包含由光源照射的发光标记(5),以及由准直透镜(6)形成的准直单元。 ),将发光标记投射到无限远。单元的轴基于通过加工支撑板(1)形成图案的准直的总图像所必需的场来取向。支撑板具有一组通孔,每个通孔包括从板的后表面(7)延伸的带螺纹的圆柱形部分(T1)。

著录项

  • 公开/公告号EP2071387A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EADS TEST & SERVICES;

    申请/专利号EP20080291156

  • 发明设计人 LECOQ PIERRE;PETIT VINCENT;DELSOL FRANCK;

    申请日2008-12-08

  • 分类号G02B27/30;G02B27/34;G01M11/02;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 19:15:22

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