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COMPOUND FOR RESIST REMOVER, AND RESIST REMOVER BY USING THE SAME

机译：用于抵抗清除的化合物，以及使用相同的物质进行抵抗清除的化合物

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摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist remover having an excellent anti-corrosion effect.;SOLUTION: A compound is expressed by formulae (A) or (B). The resist remover contains at least one of the compounds expressed by formulae (A) or (B).;COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

著录项

公开/公告号JP2009120489A

专利类型
公开/公告日2009-06-04

原文格式PDF
申请/专利权人 IDEMITSU KOSAN CO LTD;
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申请/专利号JP20070292755
发明设计人 MATSUO SHIGERU;
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申请日2007-11-12
分类号C07C69/708;G03F7/42;C07C67/31;C11D7/26;C11D17/08;H01L21/304;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:41:43

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