要解决的问题:提供改善了离子导电性的固体氧化物薄膜以及该固体氧化物薄膜的形成方法。
解决方案:通过在不插入中间层的情况下通过RF磁控管溅射在阳极3上沉积固体氧化物并在阳极和固体氧化物之间不形成反应层的情况下进行热处理来形成固体氧化物薄膜。固体氧化物薄膜的形成方法具有通过RF磁控溅射在阳极3上析出没食子酸镧的工序。然后在低于1200℃的温度下对沉积有没食子酸镧的阳极3进行热处理。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008243743A
专利类型
公开/公告日2008-10-09
原文格式PDF
申请/专利权人 UNIV OF TOKYO;
申请/专利号JP20070086068
申请日2007-03-28
分类号H01M8/02;H01M8/12;C25B1/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:22:32