要解决的问题:提供一种使用光学状态改变保护材料的受复制保护的光学介质,以及一种保护复制的出色方法。
解决方案:提供了一种方法和系统,该方法和系统使用能够改变光学状态的瞬态光学状态改变安全性材料和用于检测这种光学状态变化的软件代码来提供受复制保护的光学介质。
版权:(C)2008,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008176925A
专利类型
公开/公告日2008-07-31
原文格式PDF
申请/专利权人 VERIFICATION TECHNOLOGIES INC;
申请/专利号JP20080099966
发明设计人 COLANDREO MICHAEL;SELINFREUND RICHARD H;TURNER TOMEKO;GOYETTE DONALD R;VIG RAKESH;LI JUNZHONG;GERBER SCOTT;COOK EWELL;
申请日2008-04-08
分类号G11B7/24;G11B7/007;G11B7/004;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 20:22:49