机译:两光吸收记录材料,两光吸收光学记录和再现方法,两光吸收光学记录介质和方法,两光吸收光学颜料和光学自消色双光子。
要解决的问题:提供一种双光子吸收记录材料,其通过用光照射记录材料并通过折射率调制,吸收率调制或发光强度检测记录后的反射率或发光强度的差异来进行记录和再现。通过使用双光子吸收化合物以高灵敏度进行调制。
解决方案:双光子吸收记录材料包括至少由以下通式(1)表示的双光子吸收颜料。在通式(1)中:DLE-LP,D表示包括双光子吸收颜料的基团,L仅表示偶合手或偶合基团,E表示使双光子吸收颜料的线性吸收变色的部分。 LP表示与LP的切割耦合,并且LP表示包括通过光照射与E切割的部分耦合的组。
版权:(C)2007,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2007017885A
专利类型
公开/公告日2007-01-25
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORP;
申请/专利号JP20050202021
发明设计人 TAKIZAWA HIROO;
申请日2005-07-11
分类号G02F1/361;C09B23;G02B27/22;G11B7/244;G11B7/24;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:12:56