机译:2透镜光学系统扫描型像差校正后的离子束装置,3透镜光学系统扫描型像差校正后的离子束装置和2透镜光学系统投影型像差校正后的离子束照相系统,3透镜装置类型像差校正的离子光刻设备
公开/公告号JP2007287495A
专利类型
公开/公告日2007-11-01
原文格式PDF
申请/专利权人 JEOL LTD;
申请/专利号JP20060114024
申请日2006-04-18
分类号H01J37/153;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:14:55