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Method for selectively stressing MOSFETs to improve charge carrier mobility

机译:选择性地向MOSFET施加应力以改善载流子迁移率的方法

摘要

A strained channel MOSFET device with improved charge mobility and method for forming the same, the method including providing a first gate with a first semiconductor conductive type and second gate with a semiconductor conductive type on a substrate; forming a first strained layer with a first type of stress on said first gate; and, forming a second strained layer with a second type of stress on said second gate.
机译:一种具有改善的电荷迁移率的应变沟道MOSFET器件及其形成方法,该方法包括在基板上提供具有第一半导体导电类型的第一栅极和具有半导体导电类型的第二栅极;在所述第一栅极上形成具有第一应力类型的第一应变层;在所述第二栅极上形成具有第二应力类型的第二应变层。

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