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Comprehensive integrated lithographic process control system based on product design and yield feedback system

机译:基于产品设计和良率反馈系统的综合集成光刻工艺控制系统

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号GB0505193D0

    专利类型

  • 公开/公告日2005-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ADVANCED MICRO DEVICES INC;

    申请/专利号GB20050005193

  • 发明设计人

    申请日2003-09-12

  • 分类号G03F7/20;H01L21/66;

  • 国家 GB

  • 入库时间 2022-08-21 21:58:03

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