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Wet-etching device for photo-electrochemical wet-etching and/or gauging a semiconductor test item has a light window, an electrochemical cell, a seal ring, sources of light and a camera

机译:用于光电化学湿法蚀刻和/或测量半导体测试项目的湿法蚀刻装置,具有光窗,电化学电池,密封环,光源和照相机

摘要

Fitted with a light window (LW) (16), an electrochemical cell (2) contains an electrolyte liquid (6). A seal ring (10) opposite the LW isolates a contact surface (CS) (14) on a semiconductor test item (STI) (12). A first (18) source of light (SOL) executes wet-etching/gauging of the STI. A second SOL (38) outside the center of the LW illuminates and monitors the CS.
机译:装有光窗(LW)(16)的电化学电池(2)包含电解液(6)。与LW相对的密封环(10)隔离半导体测试项目(STI)(12)上的接触表面(CS)(14)。第一(18)光源(SOL)执行STI的湿法蚀刻/测量。 LW中心以外的第二个SOL(38)点亮并监视CS。

著录项

  • 公开/公告号DE202005007710U1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WOLFF THOMAS;

    申请/专利号DE20052007710U

  • 发明设计人

    申请日2005-05-11

  • 分类号H01L21/3063;H01L21/66;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:00:10

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