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GAN LASER DIODE

机译:Gan laser diode

摘要

GaN-based laser diode according to the present invention, in the n-GaN contact layer, n-AlGaN clad layer, InGaN active layer, p-AlGaN clad layer, a GaN-based laser diode p-GaN contact layer are formed successively on a substrate in the p-GaN doped diamond film that is formed on a p-type contact layer it has the feature.
机译:根据本发明的基于GaN的激光二极管,在n-GaN接触层中,依次在其上形成n-AlGaN覆盖层,InGaN有源层,p-AlGaN覆盖层,基于GaN的激光二极管p-GaN接触层。具有在p型接触层上形成的p-GaN掺杂金刚石膜中的衬底具有该特征。

著录项

  • 公开/公告号KR100493145B1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号KR19980000684

  • 发明设计人 OH EUN SUN;

    申请日1998-01-13

  • 分类号H01S3/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:03:47

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