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METHOD OF FORMING THIN FILM PATTERN, AND METHOD OF PRODUCING DEVICE, OPTOELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC COMPONENT

机译：形成薄膜图案的方法以及制造装置，光电装置和电子组件的方法

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摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming a thin film pattern by which line thinning can satisfactorily be realized. PSOLUTION: In the method of forming a thin film pattern, a functional liquid is arranged on a substrate P to form a thin film pattern. The method comprises: a bank formation stage S1 where banks B in accordance with a thin film pattern are projectingly provided on the substrate P; a liquid repellency imparting treatment stage S3 where liquid repellency is imparted to the banks B by CFSB4/SBplasma treatment; and a material arrangement stage S4 where the functional liquid is arranged between the banks B with liquid repellency imparted. PCOPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

机译：

要解决的问题：提供一种形成薄膜图案的方法，通过该方法可以令人满意地实现线细化。

解决方案：在形成薄膜图案的方法中，将功能液布置在基板P上以形成薄膜图案。该方法包括：堤形成阶段S1，其中根据薄膜图案的堤B被突出地设置在基板P上;疏液赋予处理阶段S3，通过CF 4 等离子处理对堤B赋予疏液性。材料布置阶段S4，其中功能液体被设置在堤B之间并具有疏液性。

版权：（C）2005，JPO＆NCIPI 展开▼

著录项

公开/公告号JP2004351272A

专利类型
公开/公告日2004-12-16

原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
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申请/专利号JP20030149648
发明设计人 HIRAI TOSHIMITSU;
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申请日2003-05-27
分类号B05D1/26;B05D3/04;G02F1/13;G02F1/1333;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:32:13

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