METHOD OF FORMING METAL THIN-FILM LAYER ON CONDUCTIVE ITO FILM OR ON GLASS SUBSTRATE SURFACE AS BASE SUBSTRATE OF ITO FILM, AND METAL THIN-FILM LAYER ON CONDUCTIVE ITO FILM OR ON GLASS SUBSTRATE SURFACE AS BASE SUBSTRATE OF THE ITO FILM

要解决的问题：提供一种能够在导电ITO膜的表面和基础基板的玻璃基板的表面上形成附着性优异的微细金属薄膜图案的方法，该方法的拉伸精度高，加工性高。 ，并且再现性高。

解决方案：过渡金属薄膜层是通过在ITO膜和玻璃基板表面上施加一种溶剂而形成的，该溶剂是将包含过渡金属化合物和过渡金属阳离子的有机金属溶解在有机溶剂中而成的。基础基板，并对其进行热处理。通过施加液体，在过渡金属薄膜层的表面上形成液体，以规定的厚度分散平均粒径为1〜100nm的金属微粒，并在该过渡金属薄膜层的表面上形成附着性优异的金属薄膜图案。通过形成上述层，通过加热和烧结上述层，在其中金属细颗粒相互烧结。

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