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Copyright protection system for photographic materials

机译:摄影材料的版权保护制度

摘要

A method of processing photosensitive materials in which one or more chemical compounds are at least partially retained after processing. The chemical compounds are unique to a particular process used by a copyright owner. The absence of the unique compounds in a processed material thus indicates that the processing has been without the authorisation of the copyright owner.
机译:一种处理光敏材料的方法,其中在处理后至少部分保留一种或多种化合物。这些化合物是版权所有者使用的特定过程所独有的。因此,在经过处理的材料中不存在独特的化合物,表明该处理未经版权拥有者的授权。

著录项

  • 公开/公告号EP1363160A1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EASTMAN KODAK COMPANY;

    申请/专利号EP20030009672

  • 发明设计人 FYSON JOHN RICHARD;

    申请日2003-04-30

  • 分类号G03C5/26;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:59:07

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