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Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles

机译:减少掩​​模版的颗粒污染制造和包装

摘要

A method of transporting a reticle is disclosed. The reticle is placed in a reticle carrier that has an ionizer. Moreover, the reticle may be attached with a pellicle. The pellicle consists of a pellicle frame and a pellicle film stretched over the pellicle frame. The pellicle frame has included within an absorbent material.
机译:公开了一种运输掩模版的方法。掩模版被放置在具有离子发生器的掩模版载体中。此外,掩模版可以附有防护膜。防护膜由防护膜框架和在防护膜框架上拉伸的防护膜构成。防护膜框架已包含在吸收性材料内。

著录项

  • 公开/公告号US2004191649A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAO GIANG T.;KUSE RONALD J.;

    申请/专利号US20040818311

  • 发明设计人 GIANG T. DAO;RONALD J. KUSE;

    申请日2004-04-05

  • 分类号G03F9/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:21:07

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