要解决的问题:提供一种用于低成本且高生产率地制造具有凹部的基材的制造方法,提供具有凹部的基材和具有凹部的基材。通过使用该方法制造的微透镜,提供通过使用具有用于微透镜的凹部的基材制造的微透镜基板,并提供具有该微透镜基板的透射型屏幕和背投式投影仪。
解决方案:在基板5上形成初始凹部51,并且蚀刻具有初始凹部51的基板5以在基板5上形成凹部。作为凹部形成,优选激光加工和喷砂加工。方法。在将初始凹部51的直径定义为a [m],将初始凹部51的深度定义为b [m]的情况下,优选满足a / b0.25的关系。
版权:(C)2005,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2004309733A
专利类型
公开/公告日2004-11-04
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20030102324
申请日2003-04-04
分类号G02B3/00;G03B21/10;G03B21/62;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:31:56