首页> 外国专利> TARGET OF INTERMETALLIC COMPOUND WITH B2-ORDERED LATTICE STRUCTURE, PRODUCTION METHOD THEREOF AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING B2-STRUCTURED UNDERLAYER

TARGET OF INTERMETALLIC COMPOUND WITH B2-ORDERED LATTICE STRUCTURE, PRODUCTION METHOD THEREOF AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING B2-STRUCTURED UNDERLAYER

机译:具有B2阶晶格结构的金属间化合物的靶标,其制备方法以及具有B2晶格下层的磁记录介质

摘要

A target for sputter-depositing a B2-structured thin film for anunderlayer of a magnetic recording medium. Since the target is madeof a sintered body of an intermetallic compound being substantially aB2-ordered lattice structure, the target has a uniform small grain sizeand a high bending strength. The target produces a thin film with asmall grain size and a minimized particle deposition.
机译:用于溅射沉积B2结构薄膜的靶材磁记录介质的底层。既然达成了目标金属间化合物的烧结体的基本为B2有序晶格结构,靶材具有均匀的小晶粒尺寸弯曲强度高目标会产生具有小晶粒尺寸和最小的颗粒沉积。

著录项

  • 公开/公告号SG76551A1

    专利类型

  • 公开/公告日2000-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI METALS LTD.;

    申请/专利号SG19980002834

  • 发明设计人 TOMONORI UENO;

    申请日1998-07-31

  • 分类号G11B5/66;G11B5/64;G11B5/00;G11B23/00;

  • 国家 SG

  • 入库时间 2022-08-22 01:23:36

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号