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Article formed by in-situ cleaning a Ti target in a Ti+TiN coating process

机译：通过在Ti + TiN涂层过程中原位清洗Ti靶而形成的制品

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摘要

A novel method of in-situ cleaning a Ti target in a Ti+TiN anti- reflective coating process when such Ti and TiN deposition process are conducted in the same process chamber by the addition of a simple process step and without the use of a shutter.

机译：当这种Ti和TiN沉积工艺在同一工艺室中通过添加简单的工艺步骤而无需使用挡板的情况下，在Ti + TiN防反射涂层工艺中原位清洁Ti靶的新方法。

著录项

公开/公告号US5607776A

专利类型
公开/公告日1997-03-04

原文格式PDF
申请/专利权人 APPLIED MATERIALS INC.;
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申请/专利号US19950403169
发明设计人 JOHN C. EGERMEIER;MARK A. MUELLER;XIN GUO;
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申请日1995-03-13
分类号B32B15/04;
国家 US
入库时间 2022-08-22 03:10:29

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