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positivresistzusammensetzung

机译：实证主义者祖萨曼森

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摘要

A positive resist composition comprising a radiation-sensitive compound and an alkali-soluble resin which is obtainable by a condensation reaction of an aldehyde and a specific hydroxyl group-containing compound (I) can improve heat resistance without deterioration of sensitivity and film thickness retention.

机译：通过醛与特定的含羟基的化合物（I）的缩合反应得到的，包含放射线敏感性化合物和碱可溶性树脂的正型抗蚀剂组合物，可以在不降低感光度和膜厚保持性的情况下提高耐热性。

著录项

公开/公告号DE69121475D1

专利类型
公开/公告日1996-09-26

原文格式PDF
申请/专利权人 SUMITOMO CHEMICAL CO. LTD. OSAKA JP;
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申请/专利号DE19916021475T
发明设计人 UETANI YASUNORI TOYONAKA-SHI OSAKA-FU JP;OSAKI HARUYOSHI TOYONAKA-SHI OSAKA-FU JP;TAKEYAMA NAOKI SETTSU-SHI OSAKA-FU JP;
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申请日1991-05-06
分类号G03F7/039;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 03:41:19

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