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Method of making junction isolated bipolar device in unisolated IGFET IC

机译:在非隔离型IGFET IC中制作结隔离型双极型器件的方法

摘要

A bipolar device is formed in an N epitaxial layer region isolated from an N substrate and the remainder of the N epitaxial layer by a P surface ring and a buried P region. An N channel device is formed in the P surface ring and a P channel device is formed in the N epitaxial layer. A buried N region is formed in the buried P region using the same mask used to form the buried P region.
机译:在与N衬底隔离的N外延层区域中,通过P表面环和掩埋的P区域在N外延层的其余部分中形成双极器件。在P表面环中形成N沟道器件,并且在N外延层中形成P沟道器件。使用与形成掩埋P区相同的掩模在掩埋P区中形成掩埋N区。

著录项

  • 公开/公告号US4311532A

    专利类型

  • 公开/公告日1982-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HARRIS CORPORATION;

    申请/专利号US19790061775

  • 发明设计人 DAVID L. TAYLOR;

    申请日1979-07-27

  • 分类号H01L21/263;H01L21/02;H01L21/20;H01L29/72;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 12:15:15

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