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ALUMINUM-SILICON SCHOTTKY TYPE DIODE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING SUCH A DIODE

机译:铝硅肖特基型二极管,其制造方法以及包括这种二极管的半导体器件

摘要

SCHOTTKY-TYPE DIODE WHOSE BARRIER 14 IS LOCATED AT THE INTERFACE OF A MULTILAYER METAL ELECTRODE 13 AND A SILICON SUBSTRATE 10. / P P THE METAL ELECTRODE HAS A LOWER ALUMINUM THIN LAYER 131 IN CONTACT WITH THE SUBSTRATE, A SUPERIOR LAYER 133 OF ALUMINUM AND AN INTERMEDIATE LAYER 132 IN A TRANSITION METAL. / P P APPLICATION, IN PARTICULAR, TO SCHOTTKY DIODES CARRIED OUT IN LOGIC INTEGRATED CIRCUITS.
机译:障碍物14的肖特基型二极管位于多层金属电极13和硅基质10的界面处。

金属电极的铝薄层较低,与基质(优良的层)接触过渡金属中的铝133和中间层132。

特别是在逻辑集成电路中实现的肖特基二极管的应用。

著录项

  • 公开/公告号FR2485809A1

    专利类型

  • 公开/公告日1981-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RADIOTECHNIQUE COMPELEC;RADIOTECHNIQUE COMPELEC;

    申请/专利号FR19800014397

  • 发明设计人 KERR GEORGE;

    申请日1980-06-27

  • 分类号H01L29/48;H01L27/06;H01L29/46;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 12:29:18

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