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Semiconducting highly antimony doped silicon prodn. - by doping melt with antimony alloy to reduce antimony vapour pressure and drawing

机译:半导体高锑掺杂硅产品。 -通过在熔融物中掺入锑合金来降低锑蒸气压并拉丝

摘要

Prodn. of semiconducting, highly Sb-doped Si (I) entails first producing a metallic alloy (II) contg. Sb, then fusing this with Si in a crucible and drawing a highly doped Si rod or bar from this. Pref. (II) is an alloy of Sb (1 wt.pt.) with Au (4 pts.), Sn (3 pts.) or Si (5 pts.). In (sic.; Sb) is incorporated in a concn. of ca. 10 esp. 19 or 10 exp. 20 Sb atoms/cm3. Ar under slight over-pressure is used as protective gas. (I) is specified for making opto-electronic devices and IR sensors. The use of (II) as dopant greatly reduces the Sb vapour pressure and hence considerably increases the possible Sb concn.
机译:产品高半导体含量的掺Sb的Si(I)首先需要生产连续的金属合金(II)。 Sb,然后在坩埚中将其与Si熔合,并从中拉出高度掺杂的Si棒或棒。首选(II)是Sb(1 wt.pt.)与Au(4 pts。),Sn(3 pts。)或Si(5 pts。)的合金。 in(原文如此; Sb)被并入concn。约。 10 esp。 19或10 exp。 20 Sb原子/ cm3。稍微过压的Ar用作保护气体。 (I)被指定用于制造光电设备和红外传感器。 (II)作为掺杂剂的使用大大降低了Sb蒸气压,因此大大增加了可能的Sb浓度。

著录项

  • 公开/公告号DE2939459A1

    专利类型

  • 公开/公告日1981-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号DE19792939459

  • 发明设计人 SCHINKDIPL.-CHEM.DR.NORBERT;

    申请日1979-09-28

  • 分类号C30B15/04;C30B29/06;H01L31/18;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 15:14:30

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