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机译：单体含量较低的聚合物乳液的制备方法和装置
公开/公告号JPS5213588A
专利类型
公开/公告日1977-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 HOECHST AG;
申请/专利号JP19760084518
发明设计人 FURANTSU BECHIYU;KURISUTOFU HAINTSUE;HORUSUTO UORUFU;
申请日1976-07-17
分类号C08F14/00;B01D1/16;B01D3/06;B01D3/08;B01D3/38;B01J10/02;B01J19/18;C08F2/00;C08F2/18;C08F2/22;C08F6/16;
国家 JP
入库时间 2022-08-23 01:19:53
机译： 氧化还原法制备低残留单体含量的乳液聚合物
机译： 用于制备具有低残留单体含量的乳液聚合物的氧化还原工艺。
机译： 用于制备残留单体含量低的聚合物乳液的REDOX工艺
