首页> 外国专利> Epitaxial deposition process in the liquid phase of gallium arsenide.

Epitaxial deposition process in the liquid phase of gallium arsenide.

机译:砷化镓液相的外延沉积工艺。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR93695E

    专利类型

  • 公开/公告日1969-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LA RADIOTECHNIQUE-COPRIM R.T.C.;

    申请/专利号FR19670134422

  • 发明设计人 DUC JEAN-MARC LE;ANDRE ELIE;

    申请日1967-12-29

  • 分类号B01J;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 11:55:07

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号