首页> 外国专利> The process of electrolytic chromium-plating with low current densities, having the effect of improving the formation of chromium deposit of metal, in the hollow parts and of the objects to be metallized

The process of electrolytic chromium-plating with low current densities, having the effect of improving the formation of chromium deposit of metal, in the hollow parts and of the objects to be metallized

机译:低电流密度的电解镀铬工艺,具有改善空心部件和待镀金属物体中金属铬沉积物形成的效果

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR607829A

    专利类型

  • 公开/公告日1926-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号FRD607829

  • 发明设计人 WURKER FROHWALD WALTER;

    申请日1925-12-10

  • 分类号C25D3/04;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-24 10:40:19

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