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POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING PHOTOSENSITIVE NOVOLAK RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER PREPARED BY USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER

机译：包括光敏酚醛清漆树脂，通过使用包括光敏树脂层的相同和半导体器件制备的光敏树脂层的正光敏树脂组合物

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摘要

(A) an alkali-soluble resin containing the structural unit of the following formula (1); (B) photosensitive diazoquinone compound; And (C) a photosensitive resin composition containing a solvent, a photosensitive resin film prepared using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

机译：（a）含有下式（1）的结构单元的碱溶性树脂; （b）光敏重氮醌化合物; （c）含有溶剂的光敏树脂组合物，使用该溶剂，具有相同的光敏树脂膜，以及包括光敏树脂膜的半导体器件。

著录项

公开/公告号KR102244474B1

专利类型
公开/公告日2021-04-23

原文格式PDF
申请/专利权人
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申请/专利号KR1020170165434
发明设计人 백택진;류경헌;신동주;안치원;
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申请日2017-12-04
分类号G03F7/039;G03F7/016;
国家 KR
入库时间 2022-08-24 18:27:23

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