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FOCUSSED GRATING DEVICES WITH LARGE ASPECT RATIO

机译:具有大纵横比的聚焦光栅装置

摘要

A focussed grating device (100) is described comprising a substrate (402) and a grating comprising a plurality of grating features (408) positioned on the substrate (402). The grating features (408) are positioned non-perpendicular to the substrate surface, thereby inducing a first focusing direction. The substrate (402) is curved, thereby inducing a second focusing direction, which is different from the first focusing direction. An X-ray system (300) comprising such a focussed grating device (100) as well as a method for producing such a focussed grating device (100) are also described.
机译:描述了聚焦光栅装置(100),包括基板(402)和包括位于基板上的多个光栅特征(408)的光栅。 光栅特征(408)被非垂直于基板表面定位,从而诱导第一聚焦方向。 基板(402)是弯曲的,从而诱导与第一聚焦方向不同的第二聚焦方向。 还描述了一种包括这种聚焦光栅装置(100)的X射线系统(300)以及用于制造这种聚焦光栅装置(100)的方法。

著录项

  • 公开/公告号EP3889973A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KONINKLIJKE PHILIPS N.V.;

    申请/专利号EP20200167480

  • 发明设计人 KOEHLER THOMAS;VOGTMEIER GEREON;

    申请日2020-04-01

  • 分类号G21K1/02;G21K1/06;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-24 21:28:26

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