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机译:二维含硼氢化氢片和二维含硼化合物片的制造方法
公开/公告号JP7057569B2
专利类型
公开/公告日2022-04-20
原文格式PDF
申请/专利权人 国立大学法人 筑波大学;国立大学法人東京工業大学;
申请/专利号JP20180546383
发明设计人 近藤 剛弘;中村 潤児;西野 弘晃;藤野 朝日;藤森 智博;細野 秀雄;宮内 雅浩;
申请日2017-10-18
分类号C01B35/04;C01B35/18;
国家 JP
入库时间 2022-08-25 00:39:35
机译: 二维含硼氢化物的片材和二维含硼化合物的片材的制造方法
机译: 包含二维硼化氢的片材和包含二维硼化合物的片材的制造方法
机译: 含二维硼氢化物的片材及含二维硼化合物的片材的生产方法