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低辐射(Low-e)玻璃真空镀膜工艺及设备

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低辐射(Low-e)玻璃是一种建筑节能玻璃,适合在任何气候环境下使用.低辐射玻璃是采用在线或者离线镀膜的方式进行加工,膜层具有极低的表面辐射率,非常符合节能降耗的社会发展要求.本文对低辐射玻璃的制程工艺(特别是离线真空镀膜技术)进行的简要的阐述并介绍了目前镀制Low-e玻璃的真空连续镀膜生产线的主要构造和技术特点，设备的第一个腔室是进片室，它的入口端和出口端都用真空锁阀紧密的密封起来。设备工作时，标准尺寸的玻璃通过打开的真空锁阀被送到进片室内，然后锁阀关闭，将真空抽到10-1mbar。这时开启出口锁阀将玻璃送入第二个腔室（过渡室）。在这里，将真空度继续抽到l0-2mbar或更高值。在第一片玻璃依次通过缓冲室和镀膜区的同时，可以将第二片玻璃送入进片室。镀膜室的数量和设计取决于要求的镀膜工艺以及预期的生产能力。膜层沉积完成后，玻璃通过过渡室然后再通过出片室并被输送到出口端，整个镀制过程就完成了。详细阐述了磁控溅射靶、镀膜控制、工作气体系统、抽真空系统等过程。

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来源
《广东省真空学会2010年年会暨广东省真空与低碳技术交流会》|2010年|24-33|共10页
会议地点深圳
作者
朱刚毅; 朱文廓;
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作者单位

广东省真空学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类建筑用玻璃;
关键词
低辐射玻璃; 真空镀膜; 磁控溅射; 工艺流程;

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