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磁控溅射法制备类金刚石薄膜的摩擦学特性

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采用磁控溅射技术在单晶硅表面制备了Ti、C和Ti、Cr、C两种类金刚石薄膜,用原子力显微镜(AFM)和俄歇能谱仪(AES)分析了薄膜的微观形貌和成分分布,用纳米压痕仪测试了薄膜的硬度和弹性模量,并考察了薄膜在不同载荷下同GCr15钢球对磨时的摩擦学性能。结果表明：所制备的类金刚石薄膜致密均匀,元素呈梯度分布。Ti、C梯度薄膜由于具有较高的硬度模量比,因此具有较好的抗磨损性能,其在不同载荷下的摩擦系数始终保持在0.1-0.2之间,磨损率在10-7mm3/m.的数量级。Cr元素的引入提高了Ti、Cr、C薄膜的硬度和弹件模量,降低了表面粗糙度和摩擦系数,却部分牺牲了薄膜的耐磨损性能。

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来源
《2010全国青年摩擦学及工业应用研讨会》|2010年|545-548|共4页
会议地点杭州
作者
王红美; 于鹤龙; 汪勇; 柳清亮; 张伟;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
磁控溅射技术; 类金刚石薄膜; 摩擦学性能;

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