硅基PN结电容的研究及分析

摘要

以硅为基体材料,PN结为基本结构制作的无源器件具有一种电容的特性,进一步利用深硅刻蚀技术,通过在硅基材料上刻蚀深图形以增大PN结结面积从而增大电容量,这种方式制作的PN结电容结果简单,制作方便,理论上在反偏下电容值可调,且与现有微电子工艺兼容。经测试研究,实际制作完成的电容电容密度可达0.7~1.5nF/mm2,工作频率为200MHz至3GHz,与传统贴片电容相比,最显著特性是电容值可控可调,寄生电感小,可广泛用于中频下电子系统的退耦,滤波等。

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