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XPS测定离子注入深度分布

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离子注入技术最初应用于半导体掺杂，由于其方法简单可控、节能环保、注入元素不限、对基材要求低，并且不改变基材的形貌，所以，离子注入技术已经成为材料表面工程的重要手段。本文下面采用XPS(X射线光电子能谱)测定Cr离子注入碳钢的Cr深度分布。综合实验结果及讨论，XPS可以作为离子注入深度分布的测试手段，并且能够给出离子注入量的相对深度分布，但是无法给出绝对量分布，并且最表面层的离子注入相对量偏差较大。

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来源
《2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议》|2009年|129-130|共2页
会议地点贵州
作者
马兰; 程斌;
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作者单位

中国金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类掺杂;
关键词
离子注入; 半导体掺杂; 材料表面工程; X射线光电子能谱;

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