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高档光刻胶发展在中国

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随着我国微电子技术的迅猛发展，与之配套的材料的研发已经越来越成为制约其发展的瓶颈，材料的研发愈加显得迫切。尽管国家对材料的发展给予了一定的支持，但由于国内基础较差，前期综合投入较少，材料发展的步伐依旧十分的迟缓。特别是作为微电子技术发展的最为关键的基础材料—高档光刻胶的发展与国际水平相比差距更大，高档光刻胶水平的提高和本土化的实现，成为微电子技术发展过程中最为关键的一个环节。

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来源
《第七届中国国际集成电路博览会暨高峰论坛》|2009年|p.141-144|共4页
会议地点苏州
作者
陈昕;
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作者单位

中国半导体行业协会;

中国国际贸易促进委员会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN405.7;
关键词
微电子技术; 高档光刻胶; 材料设计;

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