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ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的力学性能研究

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利用电感耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在Si(111)片和M2钢表面制备了ZrN薄膜。研究N2流量在0.5～1.0sccm范围内ZrN薄膜的结构和性能变化关系。XRD结果表明ZrN(111)是薄膜的择优取向；EDX显示薄膜中N/Zr原子数目比例从1.25增至1.43,表明制备的是富N薄膜；SEM照片显示薄膜都是由粒状结构组成,未发现贯穿薄膜厚度的柱状晶体；薄膜的应力均为压应力,大小在-1.5Gpa左右,薄膜的硬度由35GPa降低至28GPa。

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来源
《第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛》|2008年|249-252|共4页
会议地点武汉
作者

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作者单位

中国机械工程学会;

中国腐蚀与防护学会;

湖北省机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
感应耦合等离子体; 磁控溅射; 纳米硬度; 力学性能; 薄膜;

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