首页> 中文会议>第八届真空冶金与表面工程学术会议 >直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响

直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,为将来应用磁控溅射方法制备TiO2染料敏化太阳电池总结数据.通过扫描电子显微镜发现当总压强为2×10-1Pa、O2流量为15sccm、靶基距为190mm、温度为120℃的条件下,制备的TiO2薄膜的表面形貌呈现为疏松多孔的特性.因此是最有可能制备TiO2染料敏化太阳电池的工艺条件.

著录项

来源
《第八届真空冶金与表面工程学术会议》|2007年|203-208|共6页
会议地点沈阳
作者
王贺权; 东北大学; 巴德纯; 沈辉; 闻立时;
展开▼
作者单位

中国真空学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
直流反应磁控溅射; 二氧化钛染料敏化太阳电池; 表面形貌; 二氧化钛薄膜;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响 [J] . 王贺权 ,巴德纯 ,沈辉 . 真空科学与技术学报 . 2008,第1期
2. 沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜性质的影响 [J] . 张永熙 ,沈杰 ,杨锡良 . 真空科学与技术 . 2000,第1期
3. 直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜过程中热处理温度对薄膜性能的影响 [J] . 黄代勇 ,刘保顺 ,赵修建 . 陶瓷科学与艺术 . 2002,第003期
4. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 [J] . 王贺权 ,沈辉 ,巴德纯 . 材料科学与工程学报 . 2005,第003期
5. 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 [J] . 王贺权 ,沈辉 ,巴德纯 . 中山大学学报（自然科学版） . 2005,第006期
6. 沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响 [C] . 张永熙 ,沈杰 ,杨锡良 . 上海市真空学会第七届学术年会 . 2000
7. 直流反应磁控溅射制备Cu2O/TiO2复合薄膜及其光催化性能的研究 [A] . 刘灿 . 2011

直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅