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【2h】

High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2films: the effect of repetition frequency

机译：TiO2光催化薄膜的高速低温直流脉冲磁控溅射：重复频率的影响

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摘要

The article reports on low-temperature high-rate sputtering of hydrophilic transparent TiO2thin films using dc dual magnetron (DM) sputtering in Ar + O2mixture on unheated glass substrates. The DM was operated in a bipolar asymmetric mode and was equipped with Ti(99.5) targets of 50 mm in diameter. The substrate surface temperature Tsurfmeasured by a thermostrip was less than 180 °C for all experiments. The effect of the repetition frequency frwas investigated in detail. It was found that the increase of frfrom 100 to 350 kHz leads to (a) an improvement of the efficiency of the deposition process that results in a significant increase of the deposition rate aDof sputtered TiO2films and (b) a decrease of peak pulse voltage and sustaining of the magnetron discharge at higher target power densities. It was demonstrated that several hundreds nm thick hydrophilic TiO2films can be sputtered on unheated glass substrates at aD = 80 nm/min, Tsurf < 180 °C when high value of fr = 350 kHz was used. Properties of a thin hydrophilic TiO2film deposited on a polycarbonate substrate are given.
机译：该文章报道了在未经加热的玻璃基板上使用Ar + O2混合物中的直流双磁控（DM）溅射对亲水性透明TiO2薄膜进行低温高速率溅射的过程。 DM以双极不对称模式运行，并配备了直径为50 mm的Ti（99.5）靶。对于所有实验，通过热条测量的基板表面温度Tsurf均小于180℃。详细研究了重复频率fr的影响。发现fr从100 kHz增加到350 kHz会导致（a）沉积工艺效率的提高，从而导致溅射TiO2薄膜的沉积速率aD显着提高，并且（b）峰值脉冲电压降低，并且在更高的目标功率密度下维持磁控管放电。结果表明，当使用高= fr = 350 kHz时，Tsurf <180°C，aD = 80 nm / min，Tsurf <180°C时，可以将数百纳米厚的亲水性TiO2薄膜溅射在未加热的玻璃基板上。给出了沉积在聚碳酸酯基底上的亲水性TiO2薄膜的特性。

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