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硅衬底上的铁电薄膜生长技术的研究进展

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铁电薄膜具有良好的热释电性、压电性、电光及非线性光学特性,在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上新型功能材料研究的热点之一.本文综述了近年来铁电薄膜及其制备技术研究进展,对比了铁电薄膜的主要制备技术的优缺点,指出了目前亟待解决的一些问题。

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来源
《第五届全国夜视技术交流会暨2005年全国瞬态光学与光电子技术交流会》|2005年|174-177|共4页
会议地点云南西双版纳
作者
信思树; 普朝光; 赵维艳; 李振豪; 王忠华; 杨培志;
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作者单位

中国兵工学会;

中国光学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TM221;TM205.1;
关键词
硅衬底; 铁电薄膜; 制备技术; 非线性光学;

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