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磁控溅射法制备WO3薄膜及其光学性质研究

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本文采用DC磁控溅射的方法在玻璃基片上制备WO3薄膜,在不同温度条件下对薄膜进行退火处理;测量了不同氧分压下制备的薄膜在紫外到可见光范围内的透过率.实验表明,氧分压在75﹪左右条件下制备的薄膜具有较好的光学性能,退火温度在300℃左右可明显改变薄膜的光学性质.

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来源
《中国微米纳米技术第七届学术年会》|2005年|324-326|共3页
会议地点大连
作者
杨晓红; 重庆师范大学; 王万录; 康庆;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类溅射;
关键词
WO3薄膜; 磁控溅射; 退火; 光学性质;

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