首页> 中文会议>中国有色金属学会第六届学术年会 >快速热处理对重掺锑硅片中氧沉淀的影响

快速热处理对重掺锑硅片中氧沉淀的影响

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

对重掺锑硅片进行不同条件的快速热处理,发现快速热处理有效地增强了间隙氧的沉淀.氧沉淀的密度随着热处理温度的提高而增大,随着降温速度的增加而增大.清洁区的宽度随着高温保持时间的延长而增大,随着降温速度的增大而减小.

著录项

来源
《中国有色金属学会第六届学术年会》|2005年|429-432|共4页
会议地点北京
作者
孙世龙; 郝秋艳; 滕晓云; 王海云; 孙海知; 刘彩池;
展开▼
作者单位

中国有色金属学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
重掺锑硅单晶; 快速热处理; 氧沉淀; 清洁区;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 氮对重掺锑直拉硅中氧沉淀的影响 [J] . 余学功 ,张媛 ,马向阳 . 半导体学报：英文版 . 2004,第3期
2. 快速热处理对重掺As硅单晶中氧沉淀的影响 [J] . 孙世龙 ,刘彩池 ,郝秋艳 . 半导体学报：英文版 . 2006,第z1期
3. 锗对重掺硼直拉硅中氧沉淀的影响 [J] . 江慧华 ,杨德仁 ,田达晰 . 半导体学报：英文版 . 2005,第11期
4. 快速热处理对高能粒子辐照硅中氧沉淀的影响 [J] . 陈贵锋 ,马晓薇 ,吴建海 . 浙江大学学报（工学版） . 2011,第005期
5. 快速热处理工艺下直拉单晶硅中铜、镍对氧沉淀的影响(英文) [J] . 吴冬冬 ,杨德仁 ,席珍强 . 半导体学报：英文版 . 2006,第3期
6. 快速热处理对重掺硼硅片中氧沉淀行为的影响 [C] . 孙世龙 ,刘彩池 ,赵丽伟 . 华北地区硅酸盐学会第八届学术技术交流会 . 2005
7. 快速热处理对直拉单晶硅中氧沉淀和内吸杂的影响 [A] . 符黎明 . 2008

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号