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用移动掩模及半色调掩模技术制作连续表面微光学元件

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摘要

介绍连续表面微光学元件设计原理，介绍了几种常用的成形方法，指出控制元件面形的重要性。系统分析了移动掩模技术和半色调掩模编码技术的特点、优势及适用场合，并给出研制实例。在实际工作中，通过分析系统要求及元件特点，选择不同的方法，完成多种面形的成形，对微光学元件的研制有重要意义。

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来源
《第五届全国光子学大会》|2004年||共5页
会议地点黄山
作者
邓启凌; 杜春雷; 王长涛; 董小春; 邱传凯; 潘丽;
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作者单位

中国光学学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类波导光学与集成光学;
关键词
微光学元件; 连续表面; 移动掩模技术; 半色调掩模技术;

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