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低能电子束的能量沉积模拟与曝光分析

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利用Monte Carlo方法,本文模拟了具有Gauss分布特征的入射低能电子束斑在多元多层介质中的散射过程,得到了低能电子束在不同曝光条件下的能量沉积分布.将二次电子作用的影响考虑在内,分析了抗蚀剂的曝光过程并对抗蚀剂的曝光范围进行了修正.

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来源
《中国自动化学会第19届青年学术会议》|2004年|724-728|共5页
会议地点北京
作者
宋会英; 张玉林; 魏守水; 孔祥东;
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作者单位

中国自动化学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光能加工设备及其加工;
关键词
二次电子; 电子束曝光; 能量沉积; 三维光刻;

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