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电子束与光学混合制版技术在GaAs器件研制中的应用

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介绍用光学设备制作GaAs器件光刻中除栅条掩模版外的其它各层掩模版,而用高分辨率的电子束设备制作线宽不大于0.5um、并能与光学设备制作的各层掩模版精确套刻的栅条掩模版,即电子束与光学混合制版技术.

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来源
《第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》|2002年|306-309|共4页
会议地点厦门
作者
罗四维; 王维军; 江泽流; 刘玉贵;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
混合制版技术; 电荷积累; 电子束; GaAs器件; 干法刻蚀;

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