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陈秉克; 孙聂枫; 杨光耀; 谢德良; 刘二海; 周晓龙; 孙同年; 普朝光; 王良; 孙毅之;
中国电子学会;
半导体材料; 磷化铟; 辉光放电质谱测试; 杂质含量;
机译:2014年度复合半导体材料的出产GaAs,GaP,InP主要晶体增加,比上一年度增加310亿日元
机译:GaAs,GaP,InP化合物半导体和晶体材料
机译:基体材料对InP基InAsSb纳米结构的形貌和光学性质的影响
机译:辉光放电质谱(GDMS)对InP及其相关工艺材料进行痕量元素分析
机译:在多个标准组决策中使用Pythagorean模糊集(PFS)(MCGDM)工程材料选择应用方法
机译:使用简单的基板倾斜方法在InP(111)B基板上自催化InP / InAs / InP一维纳米结构的拉曼光谱表征
机译:高掺杂Inp作为中红外区域的低损耗等离子体材料
机译:在Inp上生长的II-VI宽带隙半导体材料Znse,ZnCdse和ZnCdmgse的蚀刻坑研究
机译:CHMA-EGDMA CHMA EGDMA CHMA-EGDMA分析CHMA-EGDMA共聚物薄层和CHMA-EGDMA共聚物中CHMA和EGDMA共聚物组成比的方法
机译:用于记录GDMO翻译器,GDMO翻译方法和GDMO翻译器程序的记录介质
机译:GDMO翻译器,GDMO翻译方法以及包含用于GDMO翻译器的程序的记录介质
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