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电子束直写直栅和T型栅工艺技术应用

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介绍用EBL(E-Beam Lithography)技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅条的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用.

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来源
《第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|2001年|58-59|共2页
会议地点成都
作者
刘玉贵; 王维军; 罗四维; 江泽流;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
电子束曝光技术; 直栅; T型栅; 工艺条件; 直接光刻;

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