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脉冲激光沉积红外探测用PtSi/Si薄膜的组织结构与光电性能

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利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si纳米薄膜.采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界面结构,利用I-V法和FTIR法测量了样品的肖特基特性和红外吸收特性等光电性能.系统分析了工艺参数、界面结构与光电性能的关系.揭示了PtSi纳米薄膜的形成条件及其界面结构对红外探测性能的影响规律.

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来源
《第四届中国功能材料及其应用学术会议》|2001年|129-132|共4页
会议地点厦门
作者
李美成; 蔡伟; 殷景华; 陈学康; 赵连城;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;红外探测、红外探测器;
关键词
脉冲激光沉积(PLD); 光电探测器; 界面结构; 光电性能; 纳米薄膜;

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