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利用扫描力显微镜测量表面静电势

摘要

扫描力显微镜(SFM)的发明提供了测量绝缘表面形貌像的能力[1],扫描力显微镜也称为原子力显微镜(AFM),是保持恒力条件下,利用硅微悬臂针尖扫描样品,得到样品表面的形貌像。由于早期的SFM的硅微悬臂针尖表面有绝缘的氧化物层,因此不能鉴别表面上导电区域和非导电区域。为了能探测到表面上微小区域的导电状态,人们采用了导电的微悬臂针尖用于SFM。在原来的SFM的基础上Martin等人实现了测量表面电容和表面静电势[2],测量表面电容的仪器称扫描电容显微镜(SCM),测量表面静电势的仪器称扫描静电势显微镜(SEPM),Weaver等人引入了调制方法测量表面电势[3],Nonnenmacher等人采用Kelvin方法测量不同材料的接触电位差[4]。 SEPM为微米、亚微米结构的电特性测量提供了有力的手段,不少研究小组用它进行了一系列微米、亚微米表面电势测量的研究工作[3-14],它特别适用于半导体器件的研究工作。随着对半导体器件集成度的提高,半导体器件的尺寸不断缩小,在微观尺度上了解它们电特性的特征,就变得很重要,SEPM特别适用于这种要求。本文叙述两种类型SEPM的工作原理和一些应用领域。

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