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外加磁场对低气压超音速等离子体射流影响机理的分析

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摘要

“磁扩幅”是近来提出的、用于改进低气压等离子体喷涂（Low Pressure Plasma Spraying）质量的一种可能的工艺手段，该文对等离子体射流受外加磁场影响的机理进行了定性分析和半定量计算，以解释“磁扩幅”现象产生的原因，以便为实验研究提供理论指导。

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来源
《第九届全国等离子体科学技术会议》|1999年|214-217|共4页
会议地点大连
作者
韩鹏; 陈熙; 张慧; 张东辉; 赖师墨;
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作者单位

中国力学学会;

中国核学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类喷镀法;
关键词
等离子体喷涂; 等离子体射流; 外加磁场; 磁扩幅;

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