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刘峰名; 任斌; 毛秉伟; 田中群;
中国化学会;
硅; 硅刻蚀; 拉曼光谱; pH值;
机译:多重内反射几何学中红外表面吸收光谱法对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察红外抗体对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察
机译:通过拉曼光谱和电化学极化原位研究了在0.05 M NaOH中铁上钝化膜的生长。第二部分:电化学极化生长过程中无源膜表面的原位拉曼光谱
机译:对硅通孔硅刻蚀(通过硅过孔)的过程中引起侧壁表面缺陷的机理的研究
机译:室温离子液体中硅电沉积过程中电解质-底物界面的原位拉曼光谱研究
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:重离子辐照对液硅拉曼光谱法原位和实时研究硼硅酸盐玻璃正向溶解速率的影响
机译:硅刻蚀工艺的原位激光拉曼光谱研究
机译:siO(sub 2)反应离子刻蚀过程中的原位生成粒子
机译:原位顺序含硅硬掩模层/硅层等离子体刻蚀方法
机译:在表面增强拉曼光谱芯片中校正拉曼光谱数据的方法,例如分析研究,除了进行拉曼光谱的波数校正外,还涉及对拉曼光谱进行强度归一化
机译:循环两步氧化-刻蚀过程中硅微结构的各向异性等离子体刻蚀方法
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