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硅外延设备及其新进展

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该文综合性地介绍了现有常见硅外延炉的性能、特点、生产能力等，同时还国外大直径硅片外延炉的一些新进展。

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来源
《1998年全国半导体硅材料学术会议》|1998年|165-168|共4页
会议地点上海
作者
陈明琪;
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作者单位

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.12;
关键词
硅; 外延生长; 设备; 外延炉;

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